【CNMO科技消息】近日，首席执行官陈立武确认，公司已开始推进10A和7A制程工艺的研发工作。这两代工艺将作为现有18A以及下一代14A之后的后续节点，面向未来十年的产品路线图布局。按照现有规划，14A节点仍将于今年10月按计划发布关键PDK，以支持后续生态开发与客户导入。
陈立武在公开活动中表示，英特尔正在同步推进更长期的工艺路线图，不仅关注当前节点，也着手准备更远期的10A和7A技术。他指出，客户关注的不只是眼前产品，还会考察企业未来数代工艺的连续性和可执行性，因此公司希望以长期路线图支撑业务发展。
根据现有信息，10A和7A工艺预计都将支持使用ASML的高数值孔径EUV光刻设备。该类设备也将首先应用于14A节点。这意味着，14A不仅是英特尔下一代先进制程的重要阶段，也可能成为后续更小节点工艺在设备和技术路径上的基础。
从时间顺序来看，18A是英特尔当前重点推进的先进工艺之一，14A则被视为下一阶段节点，而10A和7A将进一步延伸其未来制程规划。随着半导体制造进入更高难度阶段，工艺路线图、设计工具包发布节奏以及先进光刻设备导入情况，正成为观察芯片制造商长期竞争力的重要指标。此次披露也显示，英特尔已开始为下一个十年的制程演进提前做准备。
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